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化學機械拋光單模組

化學機械拋光單模組

基于晶圓的拋光設備，利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉拋光。設備具有高度兼容性，可以通過修改RECIPE變更加壓壓力。可通過最多3種化學液的配合下實現化學機械拋光。

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基于晶圓的拋光設備，利用柔性拋光頭承載晶圓在拋光墊上旋轉拋光。設備具有高度兼容性，可以通過修改RECIPE變更加壓壓力。可通過最多3種化學液的配合下實現化學機械拋光。

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優勢

1、具有氣囊背壓功能，可兼容多區加壓拋光頭；

2、靈活RECIPE設定，高質量的SFQR和ESFQR;
3、可兼容6或8寸拋光頭，便捷更換式拋光盤；
4、 可使用摩擦力重點檢測或光學終點檢測功能；

5、3路獨立供液管路；

6、占地面積小；

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