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主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板，該設備提供一種新的掩模基板拋光和制造方法。

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主要應用于半導體集成電路的高平坦度的電子設備用基板，該設備提供一種新的掩模基板拋光和制造方法。

優勢


1.雙區可控加壓拋光頭；
2.可實現拋光模和工件的原位檢測；
3.具備缺陷修復功能單元；
4.獨立供液管路；
5.國產化率100%；

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